رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition

سال انتشار: 1402
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 89

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

CELCONF02_021

تاریخ نمایه سازی: 26 اسفند 1402

چکیده مقاله:

رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد. در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ( ( ALD پرداخته شده است. همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد. در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

سیدمحمد علوی

دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام

جلایر فرزام

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام